主催:応用物理学会/日本光学会/微小光学研究グループ
主催:電子情報通信学会/シリコンフォトニクス時限研究専門委員会
共催:東京大学 生産技術研究所
第128回微小光学研究会
「シリコンでフォトニクス」
日時 : 2013年5月14日(火) 10:00〜17:30
場所 : 東京大学生産技術研究所 総合研究実験(An)棟 2階 コンベンションホール
(〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1)
会場付近地図
交通 : 京王・井の頭線 「駒場東大前」駅下車 徒歩10分
小田急線「東北沢駅」下車 徒歩10分
東京メトロ・千代田線「代々木上原」駅下車 徒歩15分
プログラム → (pdf:315KB)
10:00〜10:10 開会の挨拶 
10:10〜10:50 【特別講演】シリコンフォトニクスから汎用集積フォトニクスプラットフォームへ山田浩治(NTT)
10:50〜11:20 超低消費電力型光エレクトロニクス実装技術の開発蔵田和彦(PETRA)
11:20〜11:50 高密度光インターポーザの開発中村隆宏(PETRA)
11:50〜12:20 Si導波路光変調器とセンサ応用雨宮嘉照(広島大)
12:20〜13:20 昼食休憩(60分) 
13:20〜14:00 【特別講演】 Germanium-based Devices for Silicon PhotonicsJurgen Michel(MIT)
14:00〜14:30 フルモノリシック集積に向けたGe発光素子の開発佐川みすず(PETRA/PECST/日立)
14:30〜15:00 グラフェンプラズモン伝搬の時間分解測定藤澤利正(東工大)
15:00〜15:20 休憩(20分) 
15:20〜15:50 シリコンフォトニック結晶共振器による光と不純物準位の相互作用増強角倉久史(NTT)
15:50〜16:20 MEMS技術のOCT装置および内視鏡への応用展開諫本圭史(santec)
16:20〜16:50 光ナノインプリントとシリコンフォトニクスへの期待河野拓也(東芝)
16:50〜17:00 閉会の挨拶
last update April 8, 2013 |
HOME