主催：公益社団法人応用物理学会 微小光学研究会
第163回微小光学研究会
「実用化が拡大するシリコンフォトニクス」
参加申込はここをクリック（定員100名） | プログラム (pdf版)
（参加申込アクセス不都合時は別ネット回線をお試しください．）
近年世界的な研究開発競争が繰り広げられているシリコンフォトニクスは、日本においても産業化を見据えた多くの研究プロジェクトが推進され、幅広い応用展開が期待されている。本研究会ではセンシングと通信という二つの主要なアプリケーション分野におけるシリコンフォトニクスを用いた取組を紹介する。
日時：2022年5月25日（水）13:30-17:45
会場：早稲田大学 西早稲田キャンパス 55号館N棟1階大会議室
〒169-8555 新宿区大久保3-4-1
　会場付近地図 　
交通：JR山手線 高田馬場駅から徒歩15分
西武新宿線 高田馬場駅から徒歩15分
副都心線 西早稲田駅に直結
※Zoomによるオンライン聴講も準備します。現地会場での聴講は先着順となりますので、会場定員に達した以降の申込の方は、オンライン聴講となりますのでご了承下さい。
プログラム -- Scanning the Issue（講演概要）を表示 (カッコ内は記述委員名)
参加申込：事前申込必要（定員100名，5月18日締切．）（本ページトップのリンクから申込みください．）
*開催日の数日前に予稿集と請求書を郵送致しますので，参加費（予稿集代を含む）をお支払いください．参加費の減額・返金はいたしませんのでご了承ください．締切日後のお申込みの場合，予稿集送付が間に合わない場合があります．
参加費（消費税込．予稿集代含む．*）：一般 4,000円（応物会員）・5,000円（非会員），学生/シニア 1,000円（応物会員）・2,000円（非会員）
※応用物理会の非会員でも参加いただけますが，会員への入会希望の場合はご案内・お申込のページへ
担当委員：荒川（横国大）、北（早大）、斎藤（日立）、水本（東工大）、山口（工学院大）
問合せ先：北（早大）
E-mail: tkita■waseda.jp（■を@に変えてください．）
微小光学研究会： 代表：伊賀健一 運営委員長：中島啓幾 実行委員長：横森清
運営副委員長：波多腰玄一 実行副委員長：宮本智之

last update: April 28, 2022
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